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低能电子束辐照设备特点

 传统上,工业上使用的电子束能量范围为150keV至10MeV。我们的设备采用80keV至300keV的紧凑型低能量类型。此外,我们还开发了一种紧凑、廉价、低能量型80keV至110keV装置。该低能型电子束辐照灭菌装置适用于极小表面的EB处理,且结构极其紧凑,不占用太多安装空间,易于在线安装。

测试结果还表明,与传统的低能量类型相比,受照射物体的基材的劣化较少。

表1 EB设备能源类型及其特点

能量类型 活力 模具 缺点 优点
高能型 3.0MeV以上 扫描类型
  • 需要大屏蔽
  • 设备很大
  • 可以照射到相当大的深度
    (高达 13000g/m²)
中能量型 300keV~3.0MeV
低能量型 300keV以下 帘式
  • 穿透力低于高、中能量类型
    (最大 700g/cm²)
  • 自盾
  • 设备体积小
  • 可以内联
100keV 帘式  
  • 基材几乎没有劣化
  • 价格便宜

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